發(fā)布時間：2024-06-13 23:20

　　利用射頻磁控共濺射方法,在Si襯底上制備了Ni₈₈Cu₁₂薄膜,并且研究了膜厚以及真空磁場熱處理溫度對疇結(jié)構(gòu)和磁性的影響. X射線衍射結(jié)果表明熱處理后的薄膜晶粒長大,掃描電子顯微鏡結(jié)果發(fā)現(xiàn)不同熱處理溫度下薄膜表現(xiàn)出不同的形貌特征.熱處理前后的薄膜面內(nèi)歸一化磁滯回線結(jié)果顯示,經(jīng)過熱處理的Ni₈₈Cu₁₂薄膜條紋疇形成的臨界厚度降低,未熱處理的Ni₈₈Cu₁₂薄膜在膜厚為210 nm時出現(xiàn)條紋疇結(jié)構(gòu),而經(jīng)過300℃熱處理的Ni₈₈Cu₁₂薄膜在膜厚為105 nm就出現(xiàn)了條紋疇結(jié)構(gòu).高頻磁譜的結(jié)果表明,隨著熱處理溫度的增加, Ni₈₈Cu₁₂薄膜的共振峰會有小范圍的移動.

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