低氣壓非均勻場放電形態(tài)及特性研究
【圖文】:
2.1.2流注階段逡逑對于板-板電極均勻場而言,當(dāng)外施電壓使間隙內(nèi)部場強達到擊穿場強時便可逡逑引發(fā)電子崩向流注的轉(zhuǎn)化,此時由空間光電離造成的二次電子崩是導(dǎo)致流注形成的逡逑關(guān)鍵因素。圖2-2為外施電壓達到擊穿電壓時的流注發(fā)展過程,由圖2-2第1步所逡逑示陰極前方自由電子形成的初始電子崩在向陽極發(fā)展的過程中其內(nèi)部電荷密度逐逡逑漸增加。當(dāng)電子崩到達陽極時崩頭電子迅速在陽極中和,,而剩余陽'離子則大大加強逡逑原電場并向四周發(fā)射光子。光子在空間光電離的作用下形成光電子,光電子則在初逡逑始電子崩剩余陽離子畸變電場的吸引下開始發(fā)展碰撞電離并形成二次電子崩,如圖逡逑2-2第2?3步所示。二次電子崩頭部電子匯入初始電子崩尾部陽離子空間電荷區(qū)域,逡逑由于該區(qū)域場強較弱,大多數(shù)電子與陽離子復(fù)合成中性分子或吸附于中性分子而形逡逑成負離子,此時電離區(qū)內(nèi)共存的正、負離子共同構(gòu)成流注的等離子體部分,如圖2-2逡逑第4步所示。由于流注頭部為二次電子崩尾部的正空間電荷且等離子體通道導(dǎo)電性逡逑良好,陽極類似于被流注通道轉(zhuǎn)移至頭部,因此流注頭部前方電場很強并持續(xù)發(fā)射逡逑大量光子,二次電子崩的不斷匯入導(dǎo)致流注通道持續(xù)伸長,如圖2-2第5步所示。逡逑由于流注頭部前方發(fā)射光子方向具有隨機性,由光電子引發(fā)的二次電子崩并不一定逡逑
邐華北電力大學(xué)博士學(xué)位論文邐逡逑電子崩匯入時便終止。隨流注伸長其頭部前方場強越強且發(fā)展速度越快,當(dāng)其延伸逡逑至陰極時整個間隙即被導(dǎo)電性良好的等離子體通道貫穿,間隙擊穿完成。逡逑由正流注的發(fā)展過程可見當(dāng)外施電壓為間隙擊穿電壓時,初始電子崩需跨越整逡逑個間隙才能積累起足夠有效畸變電場的空間電荷并引發(fā)二次電子崩。然而當(dāng)外施電逡逑壓高于擊穿電壓時流注發(fā)展過程則產(chǎn)生變化。圖2-3為負流注發(fā)展過程。由圖2-3第逡逑1?2步可見當(dāng)初始電子崩發(fā)展一段距離后其頭部及尾部空間電荷畸變電場程度均己逡逑達到足以引發(fā)二次電子崩的程度,此時新產(chǎn)生的一部分二次電子崩向初崩尾部正離逡逑子區(qū)匯聚形成向陰極推進的流注,另一部分二次電子崩則由初崩頭部繼續(xù)向前發(fā)逡逑展。如圖2-3第3步所示,流注等離子體通道向陽極的推進依靠初崩頭部自由電子逡逑和二次電子崩尾部正離子的匯聚,當(dāng)流注伸長至陽極時間隙擊穿。由此可見當(dāng)外施逡逑電壓足夠高時,流注直接由陰極起始向陽極發(fā)展。逡逑
【學(xué)位授予單位】:華北電力大學(xué)(北京)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號】:TM855
【參考文獻】
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