發(fā)布時間：2017-12-29 00:36

  本文關鍵詞：在金屬基底上制作高深寬比金屬微光柵的方法　出處：《光學精密工程》2015年03期 　論文類型：期刊論文

  更多相關文章： 金屬微光柵 高深寬比 UV-LIGA工藝 SU-厚膠 微電鑄

【摘要】：根據(jù)光學領域對高深寬比金屬微器件的需求,利用UV-LIGA工藝在金屬基底上制作了具有高深寬比的金屬微光柵。采用分層曝光、一次顯影的方法制作了微電鑄用SU-8膠厚膠膠模,解決了高深寬比厚膠膠模制作困難的問題。由于電鑄時間長易導致鑄層缺陷,故采取分次電鑄等措施得到了電鑄光柵結構;同時通過線寬補償?shù)姆椒ń鉀Q了溶脹引起的線寬變小問題。在去膠工序中,采用"超聲-浸泡-超聲"循環(huán)往復的方法。最終,制作了周期為130μm、凸臺長寬高為900μm×65μm×243μm的金屬微光柵,其深寬比達到5,尺寸相對誤差小于1%,表面粗糙度小于6.17nm。本文提出的工藝方法克服了現(xiàn)有方法制作金屬微光柵時高度有限、基底易碎等局限性,為在金屬基底上制作高深寬比金屬微光柵提供了一種可行的工藝參考方案。
[Abstract]:......
【作者單位】： 大連理工大學精密與特種加工教育部重點實驗室;大連理工大學遼寧省微納米及系統(tǒng)重點實驗室;
【基金】：國家自然科學基金資助項目(No.51375077,No.51075057)
【分類號】：TH74
【正文快照】： 1引言作為光學儀器核心單元器件之一,金屬微光柵不僅可用于光譜測量,還被廣泛應用于科研和生產,尤其在計量、無線電天文學、集成光學、光通信、信息處理等諸多領域有著重要應用[1]。隨著金屬微光柵需求量不斷增長,其加工制作方法越來越受到科研人員關注�，F(xiàn)有的金屬微光柵的制

【參考文獻】

相關期刊論文 前5條

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【共引文獻】

相關期刊論文 前7條

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相關博士學位論文 前1條

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【二級參考文獻】

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本文編號：1348116